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Entegris產(chǎn)品和解決方案包括：
凈化氣體、流體和環(huán)境晶圓廠環(huán)境的過濾產(chǎn)品
分配、控制、分析或輸送工藝流體的液體系統(tǒng)和組件
安全儲(chǔ)存和輸送有毒氣體的氣體輸送系統(tǒng)
用于在高級(jí)節(jié)點(diǎn)沉積和清潔的專用化學(xué)品
保護(hù)半導(dǎo)體晶圓免受污染和破損的晶圓載體和托運(yùn)人
特種涂料，提供高純度表面，具有耐磨性、防腐蝕性和光滑性
用于高性能應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)石墨和碳化硅
用于保護(hù)和運(yùn)輸磁盤驅(qū)動(dòng)器組件的托運(yùn)器和托盤
隨著特征尺寸的減小和3D結(jié)構(gòu)的擴(kuò)散，半導(dǎo)體晶圓廠的污染控制對(duì)于實(shí)現(xiàn)可接受的器件良率至關(guān)重要。在整個(gè)工藝生命周期中對(duì)空氣、散裝或特種氣體和化學(xué)品進(jìn)行高級(jí)過濾和凈化已成為減少缺陷和提高產(chǎn)量的關(guān)鍵方面。IDM（集成設(shè)備制造商）繼續(xù)收緊他們收到的每種化學(xué)品和氣體中顆粒、金屬和有機(jī)物等參數(shù)的可接受規(guī)范。
顆粒、凝膠、金屬和空氣中的分子污染 （AMC） 都以不同的方式影響產(chǎn)品、工藝和設(shè)備，從而導(dǎo)致產(chǎn)品缺陷。Entegris液體過濾器和凈化器提供了一道防線，以防止引起缺陷的污染物到達(dá)晶圓和基板。無論是使用點(diǎn)還是批量輸送，無論是腔室還是晶圓，潔凈室還是工具，我們在提供先進(jìn)的液體、氣體和空氣凈化和過濾解決方案方面有著悠久的歷史，以滿足您在任何技術(shù)節(jié)點(diǎn)的生產(chǎn)力和可靠性要求。
隨著人工智能和機(jī)器人、智能家居和智能汽車以及物聯(lián)網(wǎng)等大趨勢的發(fā)展，以滿足對(duì)速度、規(guī)模和可靠性日益增長的需求，它們迫使集成電路 （IC） 制造商提高處理器能效和內(nèi)存大小。為了實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)，特征尺寸正在縮小，工藝復(fù)雜性正在增加，對(duì)污染和缺陷的敏感性對(duì)器件性能的影響更大。
Entegris了解清潔化學(xué)品輸送的獨(dú)特挑戰(zhàn)，并與客戶合作開發(fā)和優(yōu)化流體輸送系統(tǒng)的純度。從快速準(zhǔn)確的測量控制，到先進(jìn)的顆粒表征，再到安全高效的流體處理，Entegris在整個(gè)化學(xué)品制造到使用點(diǎn)的每一步都提供污染控制的解決方案。Entegris可以幫助您在整個(gè)流體路徑中保持化學(xué)純度，以實(shí)現(xiàn)更好的設(shè)備性能并提高產(chǎn)量。
Entegris全球卓越運(yùn)營 首屈一指的先進(jìn)材料公司
說明了Entegris 的卓越運(yùn)營以及對(duì)材料純度和預(yù)防缺陷的關(guān)注，Entegris遵守 SDS 鋼瓶、氣柜和輸送系統(tǒng)等技術(shù)的安全和環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)，以及Entegris在世界各地本地供應(yīng)的能力。 對(duì)先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的追求推動(dòng)了對(duì)材料純度和減少可變性的更嚴(yán)格要求，因?yàn)榘雽?dǎo)體制造環(huán)境是地球上最純凈的環(huán)境之一。通過SEMI，半導(dǎo)體行業(yè)花了數(shù)十年時(shí)間制定原材料、組件和分析方法的標(biāo)準(zhǔn)，以確保高純度化學(xué)品的穩(wěn)健交付可以在整個(gè)行業(yè)中復(fù)制。在大多數(shù)情況下，這些標(biāo)準(zhǔn)在污染控制方面比其他行業(yè)（包括制藥行業(yè)）嚴(yán)格幾個(gè)數(shù)量級(jí)。
Entegris SB300前開式裝運(yùn)箱（FOSB）在運(yùn)輸過程中固定晶圓，并防止污染，振動(dòng)和沖擊事件。我們的FOSB是第一個(gè)兼容FIMS的產(chǎn)品，并具有模內(nèi)晶圓支架，使其在FOSB的整個(gè)生命周期內(nèi)具有精確和永久的晶圓平面定位，使其在競爭中脫穎而出。
當(dāng)今的晶圓廠正在更清潔的環(huán)境中進(jìn)行生產(chǎn)，因?yàn)橄冗M(jìn)的工藝對(duì)AMC更加敏感，并且對(duì)AMC的影響有了更高的認(rèn)識(shí)。早期的AMC關(guān)注點(diǎn)只集中在ppm水平的少數(shù)分子上。隨著時(shí)間的推移，特別是193 nm技術(shù)，越來越多的化學(xué)品引起了關(guān)注，隨著14至7 nm關(guān)鍵尺寸的出現(xiàn)，大多數(shù)氣相化合物在某些工藝步驟中可能是一個(gè)問題。 考慮到內(nèi)部和外部AMC源的數(shù)量，半導(dǎo)體加工現(xiàn)在需要多層方法來控制污染。典型的晶圓廠在環(huán)境進(jìn)氣口（補(bǔ)充空氣處理器，MUA）采用AMC過濾器，通常在再循環(huán)或回風(fēng)處理器（RAH）中以及潔凈室吊扇過濾單元（FFU）的頂部。自 25 年前引入 DUV 技術(shù)以來，光刻工具一直使用 AMC 濾光片。然而，對(duì)于 28 nm 以下的先進(jìn)工藝，對(duì)非光刻工具保護(hù)的要求越來越高。潔凈室下方和上方的分廠和增壓室空間在大多數(shù)晶圓廠中尚未過濾，但將來可能會(huì)受到AMC控制。
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