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Isoflux，Inc.成立于1993年，由David Glocker博士創(chuàng)建，是一家設計和制造被稱為倒置圓柱形磁控管的獨特專利型濺射陰極的公司。這個技術具有許多優(yōu)點，包括均勻性、涂覆復雜三維形狀的能力以及非常有效地涂上貴金屬由于圓柱形磁控管的獨特性能。2003年，Isoflux開始專注于為生物醫(yī)學市場開發(fā)新型涂層解決方案，這導致開發(fā)了一種具有獨特柔韌性和輻射能力的專有涂層VisTa納米結構鉭涂層。
自那時以來，Isoflux一直致力于建立各種涂層材料的專門知識，不僅服務于生物醫(yī)學市場（包括神經血管、心血管和骨科產品），還服務于各種行業(yè)，提供獨特、價格合理的涂層解決方案。Isoflux增加了涂裝設備設計與銷售，至定制涂層開發(fā)，到現(xiàn)在提供合同涂層和制造服務。
At Isoflux利用數(shù)十年的薄膜涂層經驗，為一些最具挑戰(zhàn)性的表面改性應用提供了一系列解決方案。Isoflux是圓柱形磁控濺射技術的世界領先者，可用于精確應用貴金屬和其他材料，包括：
a cut in halfVisTa-納米結構鉭
Isoflux的專有VisTa涂層由一種獨特的納米結構鉭涂層組成，該涂層為一些最困難的醫(yī)療應用提供了無與倫比的性能，包括改進的放射能力和非聚合物藥物輸送。
Isoflux藥物傳遞涂層
鉭VisTa涂層的納米結構為非聚合物藥物從表面釋放控制釋放提供了平臺。
Isoflux耐磨涂層
Isoflux開發(fā)了一系列涂層來提高設備的耐磨性，從機器零件到醫(yī)療設備，再到保持光學清晰度的防刮涂層。
Isoflux光學涂層
Shell reflected in gold mirror coating我們的專有濺射工藝能夠為光學應用提供極高均勻性的涂層。特別是，利用我們的能力離軸濺射通過我們的倒置圓柱形磁控管，我們可以在無需單獨離子源的情況下實現(xiàn)離子輔助濺射的許多優(yōu)點。
Isoflex正在與Kurt J.Lesker公司合作，推出一種高性能光學涂層系統(tǒng)，該系統(tǒng)圍繞Isofleft專利的反向圓柱形磁控管建造，即毒蛇涂層系統(tǒng)。Isoflux的專有VisTa涂層由獨特的納米結構鉭涂層組成，為一些最困難的醫(yī)療應用提供了無與倫比的性能。
提高可視性
shape鉭提高了支架等設備的可視性，這是自膨脹鎳鈦合金支架的一個特殊問題，自膨脹鎳鎳合金支架在透視下很難看到。未涂層的鎳鈦合金支架在X射線下幾乎看不見，而涂有VisTa的支架則清晰可見，醫(yī)生可以輕松直觀地看到設備的位置和方向。無需添加標記帶即可提高可視性，這可以改善成像效果，但會對設備的性能產生負面影響。
支架的關鍵性能
VisTa獨特的納米結構具有無與倫比的靈活性，這對鎳鈦合金支架的性能至關重要。研究表明，Nitinol器件的固有特性沒有受到影響。在不犧牲機械性能的情況下，慢性外力或徑向阻力可見度沒有顯著變化。
此外，VisTa具有高度的生物相容性。30天和6個月的豬研究表明，VisTa涂層支架和未涂層Nitinol支架在狹窄、內膜厚度、損傷評分或炎癥評分方面無統(tǒng)計學差異。
獨特的納米結構支持其他應用
VisTa獨特的納米結構對涂層的靈活性至關重要，可以實現(xiàn)許多獨特的應用。VisTa由單獨的涂層“支柱”組成，提供了如右圖所示的獨特結構。此結構可實現(xiàn)：
非聚合物藥物釋放涂層
骨科涂層促進細胞粘附
Viper高精度光學鍍膜技術
Isoflux自豪地推出了VIPER（tm）光學涂層系統(tǒng)，其中包括Isofluft倒置環(huán)形磁控管。
Cutaway rendering of the VIPER high precision optical coating system showing the Isoflux cylindrical cathodeIsoflux正在與Kurt J.Lesker公司合作，推出新型VIPER光學涂層系統(tǒng)。該涂層系統(tǒng)具有無與倫比的靈活性，可同時涂覆不同的基材幾何形狀和不同的涂層配方，無需遮蔽和轉換。
VIPER的心臟是Isoflux反轉柱面磁心（ICM）。ICM采用Isoflux專利的非平衡磁場幾何形狀，使光學涂層具有無與倫比的優(yōu)勢：
靈活性
零切換時間-獨特的無遮罩設計可以在不破壞真空的情況下從平面零件過渡到凸面零件和凹面零件。
雙陰極配置-同時濺射高指數(shù)和低指數(shù)材料。
負載鎖定-快速加載和快速卸載意味著更大的系統(tǒng)吞吐量。
可以同時運行多個配方以增加吞吐量。
質量
由于獲得專利的等通量柱面磁控濺射源，無需單獨的離子源即可提高涂層質量。
在平面、凸面、凹面和復雜表面上具有無與倫比的均勻性。
簡單
卓越的工藝穩(wěn)定性
沒有單獨的離子源，沒有掩蔽，沒有復雜的轉換意味著一個簡單、低成本和低維護的光學涂層平臺。
接觸等通量了解更多信息并詢問我們的采樣程序。
AuRa是一種尖端的金基薄膜涂層，設計用于在我們的低溫PVD系統(tǒng)中創(chuàng)建靈活、光滑的防輻射涂層。AuRa適用于從平面到復雜幾何形狀的表面，為需要無紋理表面的應用提供光滑而靈活的防輻射解決方案。
柔性（可實現(xiàn)10%的應變）
光滑（不會積血）
不透射線
生物相容性
封裝
保持基底的特性（AF、導電性等）
可與其他涂層堆疊
弱粘結劑
導電
應用
支架
導管
血管導絲
神經植入物
嫁接
心血管/夾層植入物
離軸濺射
離子輔助濺射的新方法…沒有單獨的離子源
Isoflux通過引入圓柱形倒置磁控管改變了游戲規(guī)則，實現(xiàn)了無與倫比的均勻性、效率和高等離子能量，用于涂覆復雜形狀的涂層。但同樣的圓柱形結構也可以帶來平面所獨有的東西——離子輔助濺射離軸，沒有單獨的離子源 .將圓柱形磁控管配置與專利的不平衡磁場相結合，可以創(chuàng)建從陰極圓柱體末端延伸出來的場線。這使得濺射的原子可以覆蓋在離軸放置的襯底上，而磁鐵通過一個稱為“雙極擴散 .”
Isoflux圓柱形磁控管
Isoflux的空心陰極磁控管源，也稱為倒置磁控管，使用圓柱形靶以涂層材料包圍基板。圓柱形磁控管設計非常適合于涂覆復雜的三維形狀、導線、光纖和許多其他基底，其效率遠高于平面磁控管，并且具有極高的沉積速率、優(yōu)異的目標利用率、更少的停機時間和簡單的維護。
圓柱形設計允許在不需要旋轉的情況下一次性涂覆整個三維項目。結果是一個更高效、更簡單的過程。與平面磁控管不同，圓柱形磁控管中的磁場產生均勻的等離子體，因此導致材料的使用更加均勻。圓柱形磁控管利用了大約75%的目標，因為大多數(shù)未沉積在襯底上的沉積材料被重新沉積到目標上。
這也意味著無需經常清潔腔室。因此，您將在昂貴的目標材料上花費更少的錢，更換目標的時間更少，并享受更少的機器停機時間。
Isoflux耐磨涂層
Isoflux開發(fā)了一系列涂層來提高設備的耐磨性，從機器零件到醫(yī)療設備，再到保持光學清晰度的防刮涂層。
基于我們豐富的經驗和專有的涂層工藝，Isoflux可以幫助開發(fā)定制涂層，以滿足您最嚴格的要求。
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