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下面小編就給大家整理了《Axcelis離子注入器》，一起看看吧。細(xì)節(jié)決定成敗，品質(zhì)鑄造輝煌。深圳華聯(lián)歐沒(méi)有中間商差價(jià)，價(jià)格品質(zhì)有保障。我們始終堅(jiān)持以質(zhì)量贏得客戶(hù)的信任，使客戶(hù)提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本。多年來(lái)為用戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品采購(gòu)方案以及售后服務(wù)，產(chǎn)品質(zhì)量保證，贏得了客戶(hù)的一致好評(píng)。工業(yè)品采購(gòu)就上深圳華聯(lián)歐,歐美工控自動(dòng)化領(lǐng)域一站式服務(wù)商,售后完善、供貨期短、質(zhì)量保障、價(jià)格優(yōu)惠、歡迎咨詢(xún)！

Purion系列離子注入機(jī)是與客戶(hù)合作開(kāi)發(fā)的，旨在應(yīng)對(duì)當(dāng)前和未來(lái)10nm或更低晶圓廠工藝的挑戰(zhàn)。Purion 平臺(tái)建立在 21 世紀(jì)的架構(gòu)之上，采用獨(dú)特的使能技術(shù)設(shè)計(jì)，可提供最高的純度、精度和生產(chǎn)率，以及最低的擁有成本。

每個(gè)晶圓廠都是獨(dú)一無(wú)二的。這就是為什么Axcelis花時(shí)間了解您的工藝流程，并根據(jù)您的特定需求定制離子注入解決方案。Axcelis優(yōu)化相應(yīng)的平臺(tái)，以滿足一系列應(yīng)用的特殊要求——從存儲(chǔ)器到高級(jí)邏輯，從圖像傳感器到功率器件。Axcelis重大的研發(fā)投資創(chuàng)造了一套基于現(xiàn)代架構(gòu)的不斷擴(kuò)展的離子注入平臺(tái)，并針對(duì)當(dāng)今新興的半導(dǎo)體應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。Axcelis繼續(xù)投資于下一代技術(shù)，以使Axcelis客戶(hù)在創(chuàng)新曲線上保持領(lǐng)先地位。

Axcelis始終將環(huán)境，社會(huì)和治理政策和目標(biāo)整合到Axcelis的業(yè)務(wù)運(yùn)營(yíng)中。與所有管理實(shí)踐一樣，Axcelis的政策和目標(biāo)已經(jīng)并將繼續(xù)隨著Axcelis的業(yè)務(wù)和全球優(yōu)先事項(xiàng)而發(fā)展。

Axcelis歡迎投資者關(guān)注Axcelis的環(huán)境，社會(huì)和治理政策和目標(biāo)，Axcelis致力于與投資者分享有關(guān)這些主題的適當(dāng)、相關(guān)和重要數(shù)據(jù)。

與Axcelis業(yè)務(wù)的各個(gè)方面一樣，ESG 風(fēng)險(xiǎn)和改進(jìn)機(jī)會(huì)在Axcelis的企業(yè)風(fēng)險(xiǎn)管理系統(tǒng)和戰(zhàn)略規(guī)劃流程中得到解決，這些流程由Axcelis的董事會(huì)監(jiān)督。Axcelis認(rèn)為，鑒于ESG主題對(duì)Axcelis業(yè)務(wù)的重要性，整個(gè)董事會(huì)都應(yīng)該監(jiān)督這些主題。

為了滿足市場(chǎng)對(duì)極端圖像質(zhì)量和分辨率的需求，圖像傳感器制造商必須生產(chǎn)兼具高像素密度和極低金屬污染的芯片。為了實(shí)現(xiàn)這種平衡，同時(shí)最大限度地提高產(chǎn)量和盈利能力，制造商面臨著一些困難的技術(shù)挑戰(zhàn)。

晶圓廠面臨的主要挑戰(zhàn)：

實(shí)現(xiàn)紅光和近紅外光子的高量子效率

最大限度地減少暗電流和白像素缺陷

減小像素大小

Axcelis解決方案：

Axcelis通過(guò)業(yè)界最先進(jìn)的離子注入解決方案幫助圖像傳感器芯片制造商應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)。Axcelis的 Purion 平臺(tái)提供：

更高的光束能量 — 高達(dá) 15 MeV

使用Axcelis獨(dú)有的矢量控制系統(tǒng)進(jìn)行精確的角度控制

無(wú)與倫比的低金屬污染水平 

Axcelis的 Purion XE 系列離子注入機(jī)已迅速成為當(dāng)今要求苛刻的高能配方的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。他們獨(dú)特的射頻直線加速器（LINAC）技術(shù)提供比競(jìng)爭(zhēng)平臺(tái)更高的可靠性，更寬的能量范圍和更高的生產(chǎn)率，并具有卓越的金屬污染控制。

純度

Axcelis基于 RF LINAC 的光束線中的多重過(guò)濾技術(shù)可過(guò)濾掉其他設(shè)計(jì)遺漏的雜質(zhì)，從而實(shí)現(xiàn)業(yè)界最低的金屬和顆粒污染水平。       

精度

專(zhuān)有的 VectorTM 控制系統(tǒng)獨(dú)特地提供原位水平和垂直測(cè)量和校正，可實(shí)現(xiàn)零度植入。                   

生產(chǎn)力

借助Axcelis的高速 Purion 終端站和基于 RF LINAC 的光束線，可實(shí)現(xiàn)高達(dá) 500 WPH 的吞吐量，在最廣泛的能量范圍內(nèi)（從 40keV 到 15MeV）提供業(yè)界最高的波束電流。              

優(yōu)化您的能量水平

Purion 高能量系列包括各種植入器，允許您為您的應(yīng)用選擇最佳能量水平：

Purion XE — 12 級(jí)直線加速器，能量高達(dá) 4.5 MeV

Purion EXE — 12 級(jí) LINAC，能量高于 Purion XE，高達(dá) 5.25 MeV

Purion VXE — 帶能量增強(qiáng)器的 14 級(jí) LINAC 可提供高達(dá) 8 MeV 的能量

Purion XEmax — 雙直線加速器設(shè)計(jì)，采用專(zhuān)利升壓技術(shù)TM，可提供高達(dá) 15 MeV 的最高能量

Purion XE Power 系列—XE 和 EXE 型號(hào)專(zhuān)為大批量功率器件鋁注入、150mm SiC 晶圓處理或 200mm 薄硅晶圓處理而設(shè)計(jì)。

 GSD平臺(tái)是制造和支持時(shí)間最長(zhǎng)的批量離子注入機(jī)的行業(yè)基準(zhǔn)。Ovation 是最新的批量配置，旨在與現(xiàn)有的 Axcelis 批量植入機(jī)機(jī)群無(wú)縫集成，同時(shí)通過(guò)更新的組件提供漸進(jìn)的性能改進(jìn)，以實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)期可持續(xù)性。Ovation 將 GSD 系列平臺(tái)的生產(chǎn)相關(guān)性擴(kuò)展到未來(lái)，同時(shí)提供最高的可靠性、可維護(hù)性和最低的運(yùn)營(yíng)成本。   

100%向前推進(jìn)可持續(xù)性

新的 Ovation 配置是行業(yè)用于擴(kuò)容及其他領(lǐng)域的記錄工具。創(chuàng)新的改進(jìn)，如虛擬機(jī) RAID 工作站和高性能終端站，結(jié)合主動(dòng)的持續(xù)改進(jìn)路線圖，能夠以最快的速度、最具成本效益的方式擴(kuò)展、優(yōu)化和維持平臺(tái)功能。    

提高可靠性

該系統(tǒng)可減少 95% 的真空晶圓處理誤處理和晶圓破損。Ovation 平臺(tái)提供持續(xù)的可靠性計(jì)劃和強(qiáng)大的軟件支持，以確保最高水平的工具正常運(yùn)行時(shí)間。      

運(yùn)營(yíng)成本

創(chuàng)新的氫氣發(fā)生器、源套管屏蔽和長(zhǎng)壽命提取電極的組合可將源運(yùn)營(yíng)成本降低多達(dá) 40%，尤其是氟化物質(zhì)。  

優(yōu)化您的批處理過(guò)程

Ovation 介紹包括各種植入器，可讓您為批量植入過(guò)程選擇最佳能量范圍。

GSD/E2 鼓式 – 適用于一般大電流應(yīng)用。

GSD/HE 歡呼 – 10 級(jí)直線加速器，能量高達(dá) 3 MeV

GSD/VHE 歡呼 – 14 級(jí)直線加速器，能量高達(dá) 4.9 MeV